鍍膜儀當(dāng)接通高壓，陰極發(fā)射電子，電子能量增加到1-3kev，轟擊低真空中（3-10pA)的氣體，使其電離，激發(fā)出的電子在電場(chǎng)中被加速，繼續(xù)轟擊氣體，產(chǎn)生聯(lián)級(jí)電離，形成等離子體。離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶，當(dāng)其能量高于靶材原子的結(jié)合能時(shí)，靶材原子或者原子簇，脫離靶材，又經(jīng)過與等離子體中的殘余氣體碰撞，因此方向各異，當(dāng)落在樣品表面時(shí)，可以在粗糙的樣品表面形成厚度均一的金屬薄膜，而且與樣品的結(jié)合強(qiáng)度高。如果工作室中的氣體持續(xù)流動(dòng)，保持恒定壓力，這時(shí)的離子流保持恒定。高壓的功率決定了大離子流，一般有大離子流限制，用于保護(hù)高壓電源。

　　鍍膜儀的一般故障處理：

　　1.使用一段時(shí)間后濺射電流變小

　　處理：對(duì)靶材有無(wú)變色、破裂和油污等現(xiàn)進(jìn)行檢查。前兩者對(duì)靶材進(jìn)行更換，后者被油蒸汽污染，通過無(wú)水乙醇進(jìn)行清潔，等干了后才能夠抽真空。

　　2.使用一段時(shí)間后有過低的真空

　　處理：對(duì)濺射室中或管道內(nèi)是否有油進(jìn)行檢查，能夠使用汽油進(jìn)行清洗。

　　3.濺射電流忽高忽低

　　處理：陰極罩與靶的固定環(huán)有著過近的距離，將陰極罩逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)，對(duì)間距進(jìn)行調(diào)整。

　　4.有著過低的真空

　　處理：將放氣閥、漏氣閥和觀察泵的油窗液面旋緊。