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液體導電膠是一種固化或干燥后具有一定導電性能的膠黏劑，應用于液晶顯示屏（LCD）、發(fā)光二極管（LED）、集成電路(IC)芯片、印刷線路板組件(PCBA)、點陣塊、陶瓷電容、薄膜開關、智能卡、射頻識別等電子元件和組件的封裝和粘接，有逐步取代傳統(tǒng)的錫焊焊接的趨勢。液體導電膠的常見類別分析：1.按基體可分為熱塑性和熱固性。熱塑性基體樹脂分子鏈很長，且支鏈少，在高溫下固化時流動性較好，可重復使用。而熱固性基體材料初是單體或預聚合物，在固化過程中發(fā)生聚合反應，高分子鏈連接形成交聯的三維...

液體導電膠主要由樹脂基體、導電粒子和分散添加劑、助劑等組成。目前市場上使用的導電膠大都是填料型。填料型導電膠的樹脂基體,原則上講,可以采用各種膠勃劑類型的樹脂基體,常用的一般有熱固性膠黏劑如環(huán)氧樹脂、有機硅樹脂、聚酰亞胺樹脂、酚醛樹脂、聚氨酯、丙烯酸樹脂等膠黏劑體系。這些膠黏劑在固化后形成了導電膠的分子骨架結構,提供了力學性能和粘接性能保障,并使導電填料粒子形成通道。由于環(huán)氧樹脂可以在室溫或低于150℃固化,并且具有豐富的配方可設計性能,目前環(huán)氧樹脂基導電膠占主導地位。導電膠...

離子切割的加工原理與電子束加工基本類似，也是在真空條件下，將離子源產生的離子束經過加速后撞擊在工件表面上，引起材料變形，破壞分離。由于離子帶正電荷，其質量是電子的千萬倍，因此離子束加工主要靠高速離子束的微觀機械撞擊動能，因此，離子束撞擊工件將引起變形、分離、玻壞等機械作用，而不像電子束是通過熱效應進行加工。在真空室中將離子源產生的離子引出，并在電場中加速，形成幾十電子伏到幾十千電子伏能量的離子束。在離子束濺射沉積、離子束直接沉積或電子束蒸發(fā)沉積薄膜的同時，用上述離子束進行轟擊...

從原理上講，掃描電鏡的照明體系與透射電鏡中的類似。但不一樣的是掃描電鏡標樣有一些*需求，例如經聚光鏡作用后抵達樣品處的電子束應是直徑很細的電子探針；電子束能作掃描運動；末級聚光鏡的計劃應便于信號的搜集等。掃描電子鏡電子槍的高壓不及透射電子顯微鏡中那樣高，一般設定在1-50kv。電子槍的陰極可所以熱鎢絲型的，但近年來已更多選用陰極，有些電鏡上選用場發(fā)射槍，乃至肖特基熱場發(fā)射槍。以熱鎢絲陰極為例，在前述加快電壓下電子發(fā)射所構成的光源小的直徑。為了包管較好的分辨率，有必要將它們經聚...

TIC3X電鏡制樣設備可以靈活選擇多種樣品臺，不僅適用于高通量實驗，也適合于特定制樣需求實驗室。依據具體需求，每臺TIC3X都可裝配多種可切換樣品臺，如標準樣品臺、三樣品臺、旋轉樣品臺或冷凍樣品臺，應用于常規(guī)樣品制備，高通量樣品制備，以及某些高分子聚合物，橡膠或生物材料等溫度極敏感樣品制備。TIC3X電鏡制樣設備有關樣品的初步處理：1.取材對掃描電鏡來說，樣品可以稍大些，面積可達8×8mm，厚度可達5mm。對于易卷曲的樣品如血管、胃腸道粘膜等，可固定在濾紙或卡片紙上，以充分暴...

真空鍍膜儀以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子炮擊材料外表，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數稱為濺射產額，產額越高濺射速度越快，以Cu，Au，Ag等高，Ti，Mo，Ta，W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電發(fā)生，在10-1-10Pa真空度，在兩極間加高壓發(fā)生放電，正離子會炮擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。真空鍍膜儀為何要進行定期的清洗？鍍膜儀使用時間久了之后要定期進行清洗。在真空鍍膜儀使用鍍膜材料進行鍍膜之前，...

離子切割是利用惰性氣體元素或其他元素的離子在電場中加速成高速離子束流，以其動能進行各種微細加工的方法，離子束加工在真空中進行，污染少，特別適合加工高純度的半導體材料及易氧化的金屬材料。離子束加工的宏觀壓力小，因此加工應力小，熱變形小，加工表面質量高，適合于各種材料和低剛度零件的加工。離子切割的應用范圍如下：1.去除加工首先把氬、氪或氙等惰性氣體充入低真空度的電離室中，用髙頻放電或直流放電使之等離子化(即正離子數與負離子數相等的混合體），在加速電極的作用下，離子從等離子體中呈束...